1700℃真空管式氣氛爐

產品簡介

真空管式氣氛爐集成加熱系統、混氣系統、真空系統、循環水冷卻系統，外形美觀大方，結構設計先進合理，真空管式氣氛爐采用雙層殼體結構和智能化程序控溫系統，爐膛采用進口氧化鋁多晶體纖維材料，保溫節能。

產品型號：

更新時間：2023-05-17

廠商性質：生產廠家

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產品分類

PRODUCT CLASSIFICATION

C系列氣相沉積爐

P系列真空熱壓爐中溫管式爐高溫管式爐多溫區管式爐滑軌式管式爐立式管式爐 CVD/PECVD系統旋轉式管式爐

真空管式氣氛爐的溫度范圍和溫度控制方法有哪些？

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一、真空管式氣氛爐設備用途

真空管式氣氛爐集成加熱系統、混氣系統、真空系統、循環水冷卻系統，外形美觀大方，結構設計先進合理，真空管式氣氛爐采用雙層殼體結構和智能化程序控溫系統，爐膛采用進口氧化鋁多晶體纖維材料，保溫節能。

　　冷卻系統是真空管式氣氛爐的重要組成部分。為避免水溫升高造成停機，所以在使用的時候冷卻水路應保持暢透。這是真空管式氣氛爐工作時常披忽視的問題。如果沒有人看管可能會導致氣氛爐的重大毀壞。

　　在系統工作穩定后，至少應每月一次進行水質試驗以防過處理或欠過理。真空管式氣氛爐外殼和熱交換器材料的試驗樣品也應放在水路系統中，每年做一次重量損失檢驗以檢查處理的效果。對擴散泵的蛇形管冷卻器必須特別注意。應該經常檢查。如果堵塞了，擴散泵將會過熱并喪失功能，而且還進一步引起擴散泵加熱器燒毀，造成昂貴的、費時的修理。當蛇形冷卻水管堵塞時，將水路同水源斷開，排水并用壓縮空氣吹通或用稀醋酸溶液沖洗。

真空管式氣氛爐

二、真空管式氣氛爐產品特點

1、爐膛材料采用進口陶瓷纖維，呈現溫場均衡、表面溫度低、升溫速率快、節能等優點；

2、電熱元件采用優質加熱體，表面負荷高，發熱速度快；

3、爐體兩端采用鉸鏈結構的不銹鋼密封法蘭，方便操作、耐高溫、耐腐蝕；

4、保護管采用高純剛玉管；

5、加熱區長度達300mm,溫場更均勻；

6、密封性好，配合擴散泵或分子泵，爐子真空度可達10-3pa；

三、真空管式氣氛爐技術參數：

品名	加熱區尺寸mm	規格型號	真空度	恒溫區長度mm	爐管尺寸mm	可通氣體	加熱元件
管式爐	40*300	HTF1700-4/30	-0.1mpa	120	φ40*1000	氮氣/氧氣/氬氣/氫氣	硅鉬棒
	60*300	HTF1700-6/30	-0.1mpa	120	φ60*1000	氮氣/氧氣/氬氣/氫氣	硅鉬棒
	80*300	HTF1700-8/30	-0.1mpa	120	φ80*1000	氮氣/氧氣/氬氣/氫氣	硅鉬棒
	100*300	HTF1700-10/30	-0.1mpa	120	φ100*1000	氮氣/氧氣/氬氣/氫氣	硅鉬棒
	60*450	HTF1700-6/45	-0.1mpa	200	φ60*1200	氮氣/氧氣/氬氣/氫氣	硅鉬棒
	80*450	HTF1700-8/45	-0.1mpa	200	φ80*1200	氮氣/氧氣/氬氣/氫氣	硅鉬棒
	100*450	HTF1700-10/45	-0.1mpa	200	φ100*1200	氮氣/氧氣/氬氣/氫氣	硅鉬棒

四、真空管式氣氛爐結構作用說明

　　1.爐體采用雙層爐殼結構，雙層爐殼之間裝有風機，可以快速升降溫，爐殼表面溫度低。

　　2.爐管采用99高純剛玉管、兩端采用SUS304高真空法蘭密封。

　　3.爐膛材料采用的進口氧化鋁多晶纖維真空吸附制成，節能50%，加熱爐膛為一體化，方便取放實驗物料、更換爐管。加熱元件采用硅鉬棒。

　　4.電爐溫度控制系統采用人工智能調節技術，具有PID調節、模糊控制、自整定能力并可編制各種升溫程序等功能，該控制系統溫度顯示精度為±1℃，溫場穩定度±5℃，升溫速率1~20℃可任意設置。

　　5.真空管式氣氛爐真空度可以達到10Pa

　　真空管式氣氛爐是一種常用的高溫、高壓、高真空下進行材料加工、改性、燒結等處理的設備。它在許多領域如材料科學、能源材料、電子材料、航空材料、高溫合金等方面都有著廣泛的應用。

　　1. 燒結材料

　　真空管式氣氛爐可以實現高溫燒結、特殊氣氛燒結和多級燒結等操作，一般用于制備各種粉末冶金制品，包括陶瓷、金屬、陶瓷/金屬基復合材料等。這些材料通常難以通過常規燒結技術實現高度致密的結構和微結構。

　　由于真空管式氣氛爐可以達到高真空、惰性氣氛、活性氣體等多種環境，可以控制各種呈反應狀態的粉末材料的固相反應、液相反應等反應進行熱處理。此外，真空管式氣氛爐的特殊設計還可以實現均勻的溫度場和壓力場的控制，從而有效控制了制品中材料的化學成分和晶粒尺寸的變化，同時還可以避免產生孔隙和裂紋等缺陷。

　　2. 高溫化學反應

　　真空管式氣氛爐還可以用于高溫下的化學反應，包括熱解、氧化、還原、合成等。例如，可以使用真空上熱源進行高溫熱解，從而在特定反應溫度下將液態或高分子物質轉化為固態材料，制備出優質陶瓷膜、納米材料、金屬氫化物、有機/無機復合材料等。同時，還可以使用真空管式氣氛爐進行合成反應，貢獻出新型材料和功能材料，例如鐵電、壓電、磁性材料等。

　　3. 金屬加工

　　真空管式氣氛爐還可以用于金屬加工領域。金屬在高溫、高壓、高真空環境下可以實現特殊加工。例如：真空管式氣氛爐可以實現熱處理金屬材料，改變金屬微觀結構、調整金屬性能；根據物理、化學等反應原理，可以對金屬進行表面涂層處理，從而提高材料的耐熱性、耐腐蝕性和抗磨損性等。

　　此外，真空管式氣氛爐還可以用于靜態拉伸試驗、模擬熔融條件下的高溫加工、焊接等。這些應用都希望能夠達到高度穩定的溫度場和壓力場條件，從而確保生產出高品質的鑄造件或其他形式的金屬材料。

　　4. 半導體材料

　　真空管式氣氛爐也是半導體材料加工過程中的重要工具。半導體材料的性能取決于晶體的生長過程。高溫真空管式氣氛爐可以通過高度準確定義的溫度場和壓力場對半導體材料進行高品質的晶體生長。例如，用于鎵化合物發光二極管的常用半導體材料如InGaN、AlGaN，可以通過高壓氮氣反應器實現高質量的晶體生長。在一定的反應條件下，通過調整真空管式氣氛爐高效控制生成物中的物質量，來合成各種混合半導體。

　　5. 陶瓷材料改性

　　真空管式氣氛爐還可以實現陶瓷材料的改性，即通過特殊的處理，改變其結構和性能。陶瓷材料不僅用于傳統的沙瓷、瓷瓶、瓷碗等物件，還用于先進的磁性、電學、熱學等電子元器件，包括陶瓷電容器、熱敏電阻器、壓敏電阻器、石英陶瓷等。這些材料在應用過程中，常常需要通過改性來改善其性能。

　　例如，使用真空管式氣氛爐進行氣氛燒結處理，通過氧分壓、氣氛組成、溫度等參數的調節，可以控制結晶粒度、孔隙率和微觀結構等，從而實現改變材料的物理和化學性質，提高材料的致密性、硬度、強度、抗壓、耐磨和耐腐蝕能力。

　　總之，隨著科學技術的發展，真空管式氣氛爐在許多領域都有著廣泛的應用，成為實現材料加工、改性、燒結的重要手段之一。

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