一(yi)、PECVD系統產品應(ying)用

   PECVD工藝中由于等離子體中高速運行的電子撞擊到中性的反應氣體分子，就會使中性反應氣體分子變成碎片或處于激活的狀態容易發生反應；借助射頻等使含有薄膜組成原子的氣體，在局部形成離子體，而等離子體化學活性很強，很容易反應，在基片上沉積出所期望的薄膜；具有基本溫度低、沉積速率快、成膜質量好、針孔較少、不易龜裂等優點；

PECVD系統

二(er)、產品特點

   1、整(zheng)機采用SUS304不銹鋼(gang)材(cai)質(zhi)(zhi)，流線型外觀，真空(kong)吸附成型的優質(zhi)(zhi)高純氧化鋁多晶纖維固化爐膛，保(bao)溫性能好。

   2、爐(lu)子(zi)底(di)部裝有一對滑(hua)軌，移動平穩，可以手動從一端滑(hua)向另一端，實(shi)現(xian)快速的(de)加(jia)熱(re)和冷卻(que)。爐(lu)蓋(gai)可開啟，可以實(shi)時觀察(cha)加(jia)熱(re)的(de)物料。

   3、采用高(gao)純石(shi)英管(guan)，高(gao)溫下化(hua)學穩定性強，耐腐蝕，熱膨脹(zhang)系數極小。

 ;  4、采用(yong)SUS304不銹鋼快速(su)法蘭(lan)，通過用(yong)高溫“O”型圈緊密(mi)密(mi)封可(ke)獲(huo)得高真(zhen)空，一個卡箍就能完成法蘭(lan)的連接(jie)，放、取物料方便快捷。

   5、加熱元件采用康(kang)奈(nai)爾發(fa)熱絲，表面負荷高、經久耐(nai)用。設計(ji)溫度1200℃，升溫速(su)率10℃/min。

   6、可(ke)選配多路(lu)質量(liang)(liang)流(liu)量(liang)(liang)計，數字顯示、氣(qi)(qi)體流(liu)量(liang)(liang)自動(dong)控(kong)制；內置不銹鋼混氣(qi)(qi)箱(xiang)，每路(lu)氣(qi)(qi)體管路(lu)均配有逆(ni)止閥，可(ke)通過控(kong)制面板上的旋鈕(niu)來調節氣(qi)(qi)體流(liu)量(liang)(liang)。

   7、等離(li)子射頻(pin)電源：大射頻(pin)功率(lv)達500W，輸出頻(pin)率(lv)13.56MHz±0.005%，輸入電源 208-240VAC, 單相50/60Hz。

三、技術參數(shu)